报告题目：成像型X射线光电子能谱仪的应用和最新技术进展

时间地点：2013年12月24日15:00，四方校区2教117

报告人：朱正辉，2005年加入上海集成电路研发中心，负责量测与分析部。2007年参与编撰《半导体技术路线报告》，任《量测学》卷编委。2008年加入岛津负责表面机种销售和市场工作，并担任国家标委会表面分技术委员会厂家代表委员。

报告内容：本次报告主要介绍XPS技术的最新进展进行阐述。具体是：X射线光电子能谱仪（X-ray Photoelectron Spectroscopy，下称XPS）是广泛应用于材料科学领域的高技术分析仪器，主要用于固体材料的表面（1～10nm深度）元素成分和价态的定性和定量分析。XPS与成像功能和离子溅射刻蚀相结合，可以用于固体表面元素成分及价态的面分布和深度剖析；与离子蒸镀或其他分子束外延技术相结合，可以进行原位样品的制备及分析工作。XPS在新材料开发、功能薄膜的机理研究、纳米材料、高分子材料、材料的腐蚀与防护、催化剂研究与失效分析等方面具有不可替代的作用。

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